그라파이트 베이스 재료는 공업로 제조, 화학 산업 및 원자력 기술 등의 다양한 분야에서 사용됩니다. 반도체 생산과 같은 고순도 분야에 사용되는 경우 흑연 소재 및 부품 자체는 제조 과정에서 발생하는 오염을 최소화하기 위해 처리할 제품과 유사하거나 더 높은 순도가 필요합니다.
그라파이트 고순화 공정은 진공 또는 부분압에서 최대 2,400°C의 온도로 수행됩니다. 많은 미량 원소, 특히 금속 물질은 높은 온도에서 반응하여 탄화물을 형성하기 때문에 염소와 불소를 사용하여 세척해야 합니다. 염소와 불소는 상대적으로 무해한 화학 전구체 단계와 같은 형태로 공정에 통합될 수 있고, 설비 내부의 챔버와 반응하여 세척효과를 일으키지는 않습니다.
용해로 챔버 내부까지는 반응성 및 세척 효과가 나타나지 않습니다.
대표적인 그라파이트 고순화 공정은 아래와 같습니다.
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그라파이트 고순화 시스템
다양한 응용 분야에서 그라파이트 재료에는 부품의 수명 또는 내화학성을 증가시키는 등의 목적으로 기능성 코팅(특히, 파이로카본 및 탄화규소)을 적용합니다. 이러한 코팅은 일반적으로 CVD 프로세스를 통해 적용됩니다. CVD 프로세스는 분압 또는 대기압 바로 아래의 고온에서 수행됩니다. 온도 균일성 및 제어 정밀도, 프로세스 가스 제어 측면에서 특별한 요구 사항이 적용됩니다.
PVA TePla H는 고객의 용도 및 요구사항에 맞는 공정별 시스템 설계를 가능하게 하는 온도의 분포 및 가스 흐름을 시뮬레이션하는 엔지니어링 기술을 보유하고 있습니다.
우리는 고객의 공정 엔지니어와 긴밀히 협력하여 CVD 반응기를 개발 및 구축하고 포괄적인 전문 지식을 제공합니다.
CVD 그라파이트 코팅의 일반적인 예는 다음과 같습니다.
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그라파이트 코팅 시스템
